電子部品・セラミックス製造装置

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デモ対応製品

高速昇温炉

10℃/秒以上の高速で、最高1450℃までの高速昇温が可能。雰囲気処理も可能です。

Point

  • 10℃/秒以上の高速昇温が可能
  • 高速昇温により、処理品への熱ダメージを軽減
  • ロードロック室装備で、雰囲気処理に対応

製品の特長

小型の処理品の急速昇温処理に特化した炉です。10℃/秒以上の高速で(※速度はセッターに依る)、最高1450℃(常用温度範囲:1200~1400℃)までの高速昇温が可能。高速昇温することで、処理品への熱ダメージを軽減します。処理品投入部にはロードロック室を装備しており、雰囲気処理が可能です。MLCCなどの焼成(焼結)等にご使用頂けます。

[関連情報]:MLCC向け熱処理装置

製品仕様

最高使用温度 1450℃
常用温度範囲 1200~1400℃
昇温速度 10℃/秒(※セッターによる)
降温 自然冷却

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