研究・開発向け装置

2020.01.27

特殊ガス対応チューブ炉

  • チューブ炉(管状炉)関連の解決事例

【概要】
半導体スペックの性能と安全性を備えた小型実験炉

【対応プロセス】
CNT,TMD成長

【導入機種】
KTF647N1-S

【課題】
毒性を含む各種特殊ガスが導入でき、生成物対策が可能なクリーンな小型実験炉に対応できるメーカを探している

【解決手段】
標準チューブ炉に半導体スペックのガス系を装備し、特殊ガス(メタン・硫化水素・アンモニア等)を導入可能とし、腐食対策を施した排気系統を装備した小型チューブ炉を設計製作した

【得られた効果】
高価な半導体設備を使用する必要がなくなり、リーズナブルな装置価格で最先端の実験が可能となった

【関連製品】
KTF1200℃シリーズ(3ゾーン制御)

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