電子部品・セラミックス製造装置

デモ対応製品

小型真空炉 KBF848N-V

真空加熱処理 及び 真空置換による雰囲気加熱処理が可能な小型炉です。

Point

  • 真空加熱処理 及び 真空置換による雰囲気加熱処理が可能。
  • 卓上型のコンパクト設計。
  • 空冷方式採用で冷却水不要。

製品の特長

真空加熱処理 及び 真空置換による雰囲気加熱処理 が可能な卓上サイズの電気炉です。空冷方式採用のため、冷却水ユーティリティー設備のない実験室でも使用可能です。

製品仕様

型式 KBF848N-V
最高温度 1000℃
常用温度範囲 400~1000℃
温度分布制度(注1)(参考値) ±5℃(at 1000℃)
真空度 100Pa未満
外形寸法(炉体)(mm) 500(W)×700(H)×650(D)
炉内寸法(mm)(注2) 100(W)×99(H)×210(D)
(注1)空炉、均熱安定時、真空中。
(注2)有効寸法は炉内寸法の7割です。

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