電子部品・セラミックス製造装置

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イナートガスオーブン INL

窒素導入により、無酸化雰囲気での熱処理が可能なオーブンです。 最高350℃での処理が可能。

Point

  • 残留酸素濃度20ppm以下を達成。
  • 標準搭載の冷却機構により、降温時間を短縮。
  • シンプルで操作性に優れたプログラマを採用。
  • 操作系にはタッチパネルを採用。運転状態を一目で確認可能。
  • 冷却水不要。

製品の特長

不活性ガスの導入により、無酸化雰囲気下で最高350℃までの熱処理が可能なイナートガスオーブンです。冷却機構を標準搭載しているため降温が早く、生産性の向上が期待できます。シンプルで使い易いプログラマは、タッチパネルで操作可能。運転状態を一目で確認することができます。実験・開発だけでなく少量生産にも対応可能なコストパフォーマンスに優れたオーブンです。セラミック部品の脱脂(脱バイ)※や、ガラス基板のアニールなどに最適です。

※ 脱脂(脱バイ)処理については別途、安全にご使用いただくための検討が必要ですのでこちらまでお問合せください。

製品仕様

型式 INL-60N1C
方式 強制送風循環式(サイドフロー)

最高温度(注1)

350℃
標準温度(注1) RT+60~350°C
温度分布精度(注2) ±5°C(at 350°C)
最高温度到達時間(注1) 60分以内(RT+60~350℃)
到達酸素濃度 20ppm以下
20ppmの到着時間 60分以内(N2を90L/min導入)
冷却機構 槽外強制冷却機構
温度制御 プログラマ
記憶容量 合計1024セグメント (最大99パターン)
外形寸法(mm) 1350(W)×1450(H)×950(D)
槽内寸法(mm) 600(W)×600(H)×600(D)
安全装置

漏電ブレーカー、過熱防止計、電動機過負荷保護器

付属品 棚板2枚(棚受け付)

(注1) 加熱室内制御点での値を示す。
(注2) 有効寸法は槽内寸法の2/3です。
(注3) 脱脂(脱バイ)処理については別途、安全にご使用いただくための検討が必要ですのでこちらまでお問合せください。