酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ50～300㎜研究開発用装置。

酸化・拡散・LPCVDなどの用途に使用でき、横型多段のバッチ式熱処理装置です。

雰囲気分離技術により、加熱室内のきめ細やかな雰囲気調整が可能な連続炉です。処理内容・ご要望に応じて設計致します。

還元雰囲気中での熱処理が可能なメッシュベルト式連続炉です。各種安全装置が装備されており、容易な取り扱いが可能です。