半導体製造装置
自動車/産業機械
ディスプレイ
半導体
電子部品
ガラス
炭素材料
デモ対応製品
R＆D用縦型システム VF-1000
酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ50～300㎜研究開発用装置。
Point
製品のポイント
- R＆Dにおいても高品位なプロセスを実現した縦型炉。
- Φ50～300㎜まで幅広いウェーハサイズに対応。
- LGOヒータを搭載、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮。
- 天井高が低い工場への導入も可能。
製品の特長
酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ50～300㎜研究開発用装置。量産機と同等のプロセス評価が可能です。大学、研究所への出荷実績が多い装置です。
製品仕様
| 装置型式 | VF-1000 | |
| 本体寸法（mm） | 1500(W)×1000(D)×2130(H) | 1800(W)×1400(D)×2300(H) |
| ウェーハサイズ（mm） | ～Φ200 | Φ300 |
| 対応プロセス | 酸化・拡散・LPCVD・キュア・アニール 他 | |
| 最大処理枚数 | 25 | |
| キャリアストック数（FOUP） | ー | |
| I/Oポート（FOUP） | ー | |
| ウェーハ搬送 | 手動 | |
| AMHS | ー | |
| オプション | 強制冷却システム | |
| N2ロードロック | ||
| ボート回転機構 | ||
