半導体製造装置
自動車/産業機械
半導体
炭素材料
横型システム Model 200シリーズ
酸化・拡散・LPCVDなどの用途に使用でき、横型多段のバッチ式熱処理装置です。
Point
製品のポイント
- ～Φ200㎜ウェーハ対応、1バッチ50～150枚まで処理可能な横型炉。
- 手動の実験装置から自動搬送の量産装置まで各種対応。
- スペースに合わせた1～4段炉構成。
- ボートエレベータ、ソフトローダ、カンチレバ等の搬送に対応。
製品の特長
酸化・拡散・LPCVDなどの用途に使用でき、横方向に複数のウエハを配置したバッチ式熱処理装置です。手動の実験装置から自動搬送の量産装置まで各種対応しています。量産機は最大4段まで積み上げ可能で生産性を追求した装置です。
製品仕様
| 装置型式 | 208 | 206 | 203 | 280 | 270 | |
| ウェーハサイズ（mm） | 200 | 150 | 125 | 100 | 100 | |
| 最大処理枚数※ | ～100 | ～150 | ～50 | |||
| 本体寸法（mm）（最大） 搬送、制御盤含まず |
1段 |
900(W)× 2185(D)× 1555(H) |
760(W)× 2130(D)× 1490(H) |
700(W)× 2060(D)× 1450(H) |
610(W)× 1830(D)× 1350(H) |
610(W)× 1150(D)× 1350(H) |
| 2段 |
900(W)× 2185(D)× 2230(H) |
760(W)× 2130(D)× 1710(H) |
700(W)× 2060(D)× 1660(H) |
610(W)× 1830(D)× 1730(H) |
610(W)× 1150(D)× 1750(H) |
|
| 3段 |
900(W)× 2185(D)× 2557(H) |
760(W)× 2130(D)× 2180(H) |
700(W)× 2060(D)× 2070(H) |
610(W)× 1830(D)× 2210(H) |
610(W)× 1150(D)× 2110(H) |
|
| 4段 | ー |
760(W)× 2130(D)× 2650(H) |
700(W)× 2060(D)× 2480(H) |
610(W)× 1830(D)× 2340(H) |
610(W)× 1150(D)× 2290(H) |
|
| 対応プロセス | 酸化、拡散、LP-CVD 他 | |||||
| 搬送装置 | 手動 | 〇 | ||||
| ボートエレベータ | 〇 | |||||
| ボートローダ | 〇 | ー | ||||
| カンチレバー | 〇 | ー | ||||
| ソフトローダ | 〇 | ー | ||||
※処理枚数に合わせて装置各種提案いたします。
