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デモ対応製品
MEMS用縦型システム
MEMS向けで豊富な出荷実績。低応力Si3N4膜やPoly-Si膜形成装置の他、酸化・拡散炉等をラインアップ。
Point
製品のポイント
- 低応力Si₃N₄で100枚対応し、抜群の量産性を確保した縦型炉。
- ～Φ200㎜まで対応。
- LGOヒータを搭載、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮。
- ガスクリーニングに対応し、メンテナンス頻度を大幅削減。
- 別途、開発用装置も取り扱っています。
製品の特長
MEMS向けで豊富な出荷実績。低応力Si3N4膜やPoly-Si膜の他、酸化・拡散炉等をラインアップ。低応力Si3N4膜では優れた成膜分布を確保、最大Φ200mmの量産機対応も可能です。ガスクリーニングに対応し、メンテナンス頻度を削減しています。
製品仕様
| 装置型式 | VF-5100 | |
| 本体寸法（mm） | 900(W)×1850(D)×2930(H) | 1000(W)×1950(D)×3300(H) |
| ウェーハサイズ（mm） | ～Φ150 | Φ200 |
| 対応プロセス | 酸化・拡散・LPCVD（低応力Si3N4、D-Poly-Si）・キュア・アニール 他 | |
| 最大処理枚数 | 150 100（低応力Si3N4） |
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| キャリアストック数 | 8 | |
| I/Oポート | 1 | |
| ウェーハ搬送 | 自動（5枚一括＋1枚搬送） | |
| AMHS | ー | |
| オプション | ホスト通信 | |
| 強制冷却システム | ||
| N2ロードロック | ||
| ボート回転機構 | ||
