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量産用ターンテーブル式縦型システム VF-5100
酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応した～Φ200㎜量産装置。コストパフォーマンスに優れたベストセラー装置です。
Point
製品のポイント
- コストパフォーマンスが高いベストセラー量産装置。
- ～Φ200㎜ウェーハで最大150枚/バッチ処理可能。
- LGOヒータを搭載、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮。
- ウェーハはツインアーム（5枚＋1枚）搬送で高速搬送が可能。
- IGBT用薄ウェーハ（リブ付き含む）にも対応。
- マスクブランクス基板やLED用サファイアウェーハのアニール処理にも対応。。
製品の特長
酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ100～200㎜量産装置。コストパフォーマンスが高く当社のベストセラー装置です。異サイズウェーハの段取り変えも容易で、変形の大きい薄ウェーハの搬送にも対応しています。
製品仕様
| 装置型式 | VF-5100 | |
| 本体寸法（mm） | 900(W)×1850(D)×2930(H) | 1000(W)×1950(D)×3300(H) |
| ウェーハサイズ（mm） | ～Φ200 | Φ200 |
| 一処理枚数 | ～Φ150：150 ～Φ200：100 |
150 |
| キャリアストック数（FOUP） | ～Φ150：8 ～Φ200：6 |
8 |
| 使用温度 | 140～1150℃ | |
| ウェーハ搬送 | 5枚一括＋枚葉 | |
| AMHS | ー | |
| オプション | ホスト通信 | |
| 強制冷却システム | ||
| N2ロードロック | ||
| ボート回転機構 | ||
| 各種サイズのウェーハ兼用可能 | ||
| 薄ウェーハ対応 | ||
| 対応プロセス | 酸化・拡散・LP-CVD・アニール 他 | |
- ※ウェーハの厚み、撓みによっては、処理枚数は要相談となります。
