半導体製造装置
半導体
デモ対応製品
VCSEL（面発光レーザ）用縦型システム
VCSEL（面発光レーザ）用のWET酸化でベストセラー装置です。
量産及び開発用の装置をラインアップ。
Point
製品のポイント
- ミニバッチ25枚処理でR＆Dから量産ラインに対応した縦型炉。
- ～Φ150㎜のGaAsウェーハに対応。
- LGOヒータを搭載、低温酸化で優れた膜厚分布と再現性を実現。
- 天井高が低い工場への導入が可能。
製品の特長
VCSEL（面発光レーザ）用でベストセラー装置です。
レーザー発光部のAlGaAs層を水蒸気酸化させ狭窄構造を形成します。
低温域での抜群の温度制御性・再現性により、優れた酸化均一性を実現できる装置で、量産用自動搬送タイプのVF-3000Bと開発用のVF-1000Bをラインアップ。
製品仕様
| 装置型式 | VF-3000B | VF-1000B |
| 本体寸法（mm） | 1200(W)×1450(D)×2610(H) | 1500(W)×1000(D)×2130(H) |
| ウェーハサイズ（mm） | ～Φ150 | |
| 対応プロセス | WET酸化、H2シンター、ポリイミドキュア 他 | |
| 最大処理枚数 | WET酸化：25 その他プロセス：75 |
|
| キャリアストック数 | 4 | ー |
| I/Oポート | 4 | ー |
| ウェーハ搬送 | 自動（1枚搬送） | 手動 |
| AMHS | ー | ー |
| オプション | 強制冷却システム | 強制冷却システム |
| N2ロードロック | N2ロードロック | |
| ボート回転機構 | ボート回転機構 | |
