半導体製造装置

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半導体

デモ対応製品

Φ300㎜対応ラージバッチ縦型システム VF-5900

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ300㎜量産装置。

Point

  • 最大100枚/バッチ対応縦型炉。
  • 最大16個のFOUPを収納可能。
  • LGOヒータを搭載、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮。
  • IGBT用リブ付き薄ウェーハにも対応。
  • 反りのあるウェーハも、反り量に応じ最適な搬送方法をご提案。
  • FO-WLPなどパッケージ工程のキュア用途でも豊富な納入実績。

製品の特長

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ300㎜量産装置。FO-WLPなどパッケージ工程のキュア用途でも豊富な納入実績。IGBT用リブ付き薄ウェーハなどの搬送にも対応しています。

製品仕様

装置型式 VF-5900
本体寸法(mm) 1250(W)×4300(D)×3450(H)
ウェーハサイズ(mm) Φ300
対応プロセス 酸化・拡散・LPCVD・キュア・アニール 他
最大処理枚数 100
キャリアストック数(FOUP) 16
I/Oポート 2
ウェーハ搬送 自動(5枚一括+1枚搬送)
AMHS AGV・OHT
オプション ホスト通信
強制冷却システム
N2ロードロック
ボート回転機構