MEMS向けで豊富な出荷実績。低応力Si₃N₄膜やPoly-Si膜形成装置の他、酸化・拡散炉等をラインアップ。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ150～200㎜量産装置。20個のカセットを収納出来、連続バッチ処理が可能です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応した～Φ200㎜量産装置。コストパフォーマンスに優れたベストセラー装置です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ50～300㎜研究開発用装置。

酸化・拡散・LPCVDなどの用途に使用でき、横型多段のバッチ式熱処理装置です。