酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ300㎜量産装置。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ300㎜ミニバッチ量産装置。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ150～200㎜量産装置。20個のカセットを収納、連続バッチ処理が可能です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応した～Φ200㎜量産装置。コストパフォーマンスに優れたベストセラー装置です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ75～200㎜準量産装置。50～75枚のミニバッチ処理に最適。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ50～300㎜研究開発用装置。

酸化・拡散・LPCVDなどの用途に使用でき、横型多段のバッチ式熱処理装置です。

イオン注入後の活性化アニールなどに使用されるランプアニールの量産装置です。

イオン注入後の活性化アニールなどに使用されるランプアニールの実験装置です。

卓上式のコンパクトなR＆D用ランプアニール装置で、太陽電池の電極焼成やイオン注入後の活性化アニールなどに最適です。

FO-WLP、WL-CSPのPIQ処理で豊富な実績のあるΦ300㎜ウェーハの他、Chipletや2.xD/3D先端パッケージ用の各種角型基板（～600x600mm）にも対応する基板自動搬送付きの量産用クリーンオーブンです。