MEMS向けで豊富な出荷実績。低応力Si₃N₄膜やPoly-Si膜形成装置の他、酸化・拡散炉等をラインアップ。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ150～200㎜量産装置。20個のカセットを収納、連続バッチ処理が可能です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応した～Φ200㎜量産装置。コストパフォーマンスに優れたベストセラー装置です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ75～200㎜準量産装置。50～75枚のミニバッチ処理に最適。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ50～300㎜研究開発用装置。

耐熱高性能フィルタと冷却器の組み合わせにより、クリーン環境と高温処理を両立したオーブンシリーズです。

実験開発（R&D）用コンベア炉です。様々な熱処理雰囲気に対応しています。また、多品種少量生産にも最適です。