パワー半導体
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量産用ターンテーブル式縦型システム VF-5100
酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応した~Φ200㎜量産装置。コストパフォーマンスに優れたベストセラー装置です。
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シリコンウェーハ用ランプアニールシステム RLA-3100
イオン注入後の活性化アニールなどに使用されるランプアニールの量産装置です。
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研究開発用ランプアニールシステム RLA-1200
イオン注入後の活性化アニールなどに使用されるランプアニールの実験装置です。
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卓上型ランプアニール DTL-6
卓上式のコンパクトなR&D用ランプアニール装置で、太陽電池の電極焼成やイオン注入後の活性化アニールなどに最適です。
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300㎜ウェーハ対応クリーンオーブンシステムSO2-12-F
Φ300㎜で全自動対応し、後工程におけるPIQ処理で豊富な実績がある量産用クリーンオーブンです。
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AllFit® INH 過熱水蒸気対応イナートガスオーブン
過熱水蒸気雰囲気に対応したイナートガスオーブンです。過熱水蒸気発生装置をオーブン本体と一体化したコンパクト設計。
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高温イナートガスオーブン INHシリーズ
無酸化雰囲気で最高600℃での熱処理が可能なオーブン。セラミックの脱脂(脱バイ)用途で多数の納入実績があるモデルです。
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AllFit® 810A 過熱水蒸気対応小型コンベア炉
過熱水蒸気雰囲気に対応した小型連続炉。結露対策されており、出入口での結露もありません。
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高温雰囲気ボックス炉
各種雰囲気での高温処理が可能な電気炉シリーズです。
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メッシュベルト炉 標準マッフル型
搬送機構に金属メッシュベルトを採用した連続炉。金属マッフルの採用により、均熱性、気密性、雰囲気の安定性に優れています。
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メッシュベルト炉 マルチ給排気型
雰囲気分離技術により、加熱室内のきめ細やかな雰囲気調整が可能な連続炉です。処理内容・ご要望に応じて設計致します。
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小型コンベア炉 810A
実験開発(R&D)用コンベア炉です。様々な熱処理雰囲気に対応可能です。また、多品種少量生産にも最適です。