酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ150～200㎜量産装置。20個のカセットを収納、連続バッチ処理が可能です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応した～Φ200㎜量産装置。コストパフォーマンスに優れたベストセラー装置です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ75～200㎜準量産装置。50～75枚のミニバッチ処理に最適。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ50～300㎜研究開発用装置。

無酸化雰囲気で最高600℃での熱処理が可能なオーブン。セラミックの脱脂（脱バイ）用途で多数の納入実績があるモデルです。

窒素導入により、無酸化雰囲気での熱処理が可能なオーブンです。 最高350℃での処理が可能。

低酸素雰囲気で、最高600℃までの熱処理が可能な小型のイナートガスオーブンです。冷却水が不要なモデルです。

耐熱高性能フィルタと冷却器の組み合わせにより、クリーン環境と高温処理を両立したオーブンシリーズです。