酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ150～200㎜量産装置。20個のカセットを収納、連続バッチ処理が可能です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応した～Φ200㎜量産装置。コストパフォーマンスに優れたベストセラー装置です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ50～300㎜研究開発用装置。

半導体先端パッケージのRDL（再配線層）やガラスインターポーザ、液晶やOLED（有機EL）、ポリイミドフィルム製造に対応した大口径縦型炉です。

温度均一性、クリーン性能に優れる熱風循環式の連続オーブン。様々な搬送方式との組み合わせが可能です。

無酸化雰囲気で最高600℃での熱処理が可能なオーブン。セラミックの脱脂（脱バイ）用途で多数の納入実績があるモデルです。

窒素導入により、無酸化雰囲気での熱処理が可能なオーブンです。 最高350℃での処理が可能。

低酸素雰囲気で、最高600℃までの熱処理が可能な小型のイナートガスオーブンです。冷却水が不要なモデルです。

耐熱高性能フィルタと冷却器の組み合わせにより、クリーン環境と高温処理を両立したオーブンシリーズです。

耐熱性HEPAフィルタにより、クリーン環境での熱処理が可能なオーブンシリーズです。