酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ300㎜量産装置。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ300㎜ミニバッチ量産装置。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ150～200㎜量産装置。20個のカセットを収納、連続バッチ処理が可能です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応した～Φ200㎜量産装置。コストパフォーマンスに優れたベストセラー装置です。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ75～200㎜準量産装置。50～75枚のミニバッチ処理に最適。

酸化・拡散・LP-CVD他各種プロセスに対応したΦ50～300㎜研究開発用装置。

FO-WLP、WL-CSPのPIQ処理で豊富な実績のあるΦ300㎜ウェーハの他、Chipletや2.xD/3D先端パッケージ用の各種角型基板（～600x600mm）にも対応する基板自動搬送付きの量産用クリーンオーブンです。

半導体先端パッケージのRDL（再配線層）やガラスインターポーザ、液晶やOLED（有機EL）、ポリイミドフィルム製造に対応した大口径縦型炉です。

耐熱高性能フィルタと冷却器の組み合わせにより、クリーン環境と高温処理を両立したオーブンシリーズです。