液晶（LCD）、有機EL（OLED）用ガラス基板のクリーン加熱装置。クリーン性能や生産性に優れるモデルです。

遠赤外線（IR）加熱を採用した枚葉式クリーンオーブンです。加熱効率に優れています。

真空中での熱処理に対応。真空ロードロックや基板搬送ロボットとの組み合わせも可能です。

最高500℃での熱処理が可能なバッチ式クリーンオーブン。バッチ式でありながら、生産性に優れたモデルです。

半導体先端パッケージのRDL（再配線層）やガラスインターポーザ、液晶やOLED（有機EL）、ポリイミドフィルム製造に対応した大口径縦型炉です。

搬送機構に特殊セラミックローラを採用した連続炉です。　　　　　　大型ガラス基板の搬送に対応可能です。

無酸化雰囲気で最高600℃での熱処理が可能なオーブン。セラミックの脱脂（脱バイ）用途で多数の納入実績があるモデルです。

窒素導入により、無酸化雰囲気での熱処理が可能なオーブンです。 最高350℃での処理が可能。

低酸素雰囲気で、最高600℃までの熱処理が可能な小型のイナートガスオーブンです。冷却水が不要なモデルです。

耐熱高性能フィルタと冷却器の組み合わせにより、クリーン環境と高温処理を両立したオーブンシリーズです。